FETCH con fuerte tendencia alcista

2019年5月21日

Veo condiciones propicias para que continúe subiendo:

• Formando patrón de continuación de tendencia.
  
• El R3 semanal actualmente funcionando como soporte.
  
• Las próximas Resistencias están muy altas.
  
• Volumen descendente durante la corrección.
  
• Aumento del FOMO sobre las IEO (MATIC, CELR y FET).
  

Objetivo 1: 0.3480 (+24%)
Objetivo 2: 0.3670 (+30%)
Objetivo 3: 0.4320 (+54%)
Stop Loss inicial: 0.2635 (subirlo acompañando la progresión del precio)